Logo SEMAPP                                   


Overflader i Hygiejnisk Procesudstyr og Renrum


1. december 2016


DTU Lyngby
Mødelokale 1
Anker Engelundsvej 1
2800 Kgs. Lyngby


Virksomheder der producerer i hygiejniske- og/eller renrumsmiljøer er som oftest underlagt svære valideringskrav, som er svære at forene med effektivitet og produktionsoptimering. Sådanne produktionsliner er kendetegnet ved, at selv trivielt vedligehold kompliceres, og der stilles høje krav til materialer og overfladers pålidelighed.

Denne temadag stiller skarpt på de materiale- og overfladekrav, som ofte mødes i de pågældende miljøer, og hvordan pålideligheden af produktionen bedst sikres. Arrangementet henvender sig til alle, der beskæftiger sig med produktion i renrum og hygiejnisk procesudstyr f.eks. i farma-, mediko-, fødevare- og hospitalsbrancherne.

Deltagerliste

08:30 – 09:00
REGISTRERING OG MORGENMAD
09:00 – 09:10
VELKOMST V/ DANIEL MINZARI
09:10 – 09:45

Jan Mottlau

GENERELT OM RENRUM
Jan Mottlau, Civilingeniør, Ph.d., Alectia A/S

Jan er specialist inden for ventilation og proces og har mange års erfaring med ventilation af renrum, generel filtrering, specielle installationer, procesventilation, farmaceutisk industri, BSL og GMO.
09:45 – 10:20

Morten Madsen

RENRUM TIL PRODUKTION AF KOMPONENTER INDENFOR NANO- OG MIKRO-TEKNOLOG (HOLDES PÅ ENGELSK)
Arkadiusz Goszczak, Executive officer, Civilingeniør, Ph.D, Syddansk Universitet

Udviklingen af nye komponenter indenfor elektronik, aktuatorer, sensorer, fødevareindustrien mm. medfører i dag større krav til renheden af de enkelte komponenter, og dermed også til renheden af de produktionsfaciliteter som komponenterne fremstilles i. Dette er specielt indenfor udviklingen af nye komponenter vha. nano og mikro-teknologi, hvor støv og anden forurening har en vital betydning for komponenternes virkemåde. I dette oplæg gives et indblik i den renrumsteknologi, der anvendes til fremstilling af nye komponenter indenfor området nano- og mikro-teknologi med udgangspunkt i klasse 100 renrummet på Mads Clausen Instiuttet på Syddansk Universitet. Derudover gives der også eksempler på krav og anvendelse indenfor specielt elektronikproduktion.

Arkadiusz J. Goszczak obtained his B.Sc. in Electronic Engineering in 2007 and went on to work as a technical consultant and computer engineer for two years before completing the M.Sc. in Mechatronics at the University of Southern Denmark in 2012. During his masters, he worked as a research assistant, his main tasks being: design, development and fabrication of automated platforms for sorting and cleaving mica disks. From 2012-2016, he was a PhD student at the SDU where he worked with solar cells, nanostructures, imprinting, evaporation of materials and electrochemistry. Since October 2015, he works at SDU - Sønderborg as Head of the Cleanroom Facility.
10:20 – 10:40
PAUSE
10:40 – 11:15

Lars Vedel Jørgensen

CLEANROOM DESIGN TO MEET THE USER REQUIREMENTS
Lars Vedel Jørgensen, Lead Architecht, NNE Pharmaplan


The main design drivers for the cleanroom complementation are the following; The design drivers “the degree of tightness”, “the degree of cleanness and maintenance” and “the flow of materials, equipment and personnel” are all together defining the design requirements to areas or volumes in the pharmaceutical and biotechnological industry. The purpose is to support agile and flexible operations, provide seamless GMP compliance and future-proof solutions.

For the last 15 years, Lars has been engaged in several major pharmaceutical and biotechnological projects as a key person, regarding planning and execution of Clean Room and cGMP projects. Lars is a key person within the development of execution methods and systems for Clean Room, vaccine production and Bio Containment. Lars is assigned as academy speaker for training and education.
11:15 – 11:50

Nicolai Frost-Jensen Johansen

TEST AF PROCESRENGØRING I MODELANLÆG
Lars Kiørboe, Head of Pilot Plant, DTU Kemiteknik


Automatisk rengøring af overflader i procesanlæg er som regel en empirisk opgave i en kombination mellem anlægsdesign, urenhedernes kemiske og fysiske karakter og forskellige rengøringsprocedurer. Desuden er kontrollen af rengøringens kvalitet (rengøringsvalideringen) et valg imellem ret primitive metoder. Egentlig forskning på området synes ikke at finde sted.
DTU Kemiteknik har i mange år undervist i GMP, hvor CIP-rengøring er et vigtigt element. Undervisningen er delvist eksperimentelt baseret, og der er udviklet et modelprocesanlæg, som i kombination med en mobil CIP-enhed giver mulighed for at teste forskellige rengøringsopgaver. Anlægget benyttes også til forskning og kan bruges til industrielle kontraktopgaver.
I indlægget beskrives kort undervisningsprogrammet og de tilhørende eksperimentelle aktiviteter, hvorefter der bliver lejlighed til at besigtige udstyret og overvære en demonstration.

Lars Kiørboe er civilingeniør i kemi fra DTU Kemiteknik og har 30 års kemiindustriel proceserfaring, herunder med design, produktion og opstart af CIP anlæg.
11:50 – 12:50
FROKOST
12:50 – 13:35


RUNDVISNING I PILOT PLANT
Lars Kiørboe, Head of PILOT PLANT, DTU Kemiteknik

Ivan Hundebøl, Specialkonsulent, DTU Kemiteknik
13:35 – 14:10

Rune Juul Christiansen

BIOLOGISK KONTAMINERING I RENRUMSMILJØER
Rune Juul Christiansen, PhD, DTU Mekanik

Mikrobiologisk kontaminering kan have omfattende konsekvenser indenfor forskning, men i særdeleshed også indenfor produktionen af medicinsk udstyr og farmaceutiske produkter. Dette oplæg zoomer ind på de biologiske mekanismer bag mikrobiologisk kontaminering og bekæmpelsen heraf i renrumsmiljøer.

Rune Christiansen er M.Sc. i biomedicinsk ingeniør og Ph.D. i biomaterialer fra DTU og har en tværfaglig baggrund indenfor biologi, medico teknik og materiale videnskab. Han forsker i implantat materialer og biokompatibilitet på Institut for Immunologi og Mikrobiologi (Københavns Universitet) og Institut for Mekanisk Teknologi (Danmarks Tekniske Universitet).
14:10 – 14:30
PAUSE
14:30 – 15:05


TITEL KOMMER SNART!
15:05 – 15:40

Jens Thomsen

HVORDAN OPKLARES OG ANALYSERES SKADER PÅ HYGIEJNISKE OVERFLADER?
Mikkel Østergaard Hansen, Senior Engineer, IPU

Når skaden er sket, er fokus naturligvis på at reetablere produktionen hurtigst muligt. Men hvordan forenes dette med en skadesanalyse hvis formål er at sikre at skaden ikke gentager sig? Skadesopklaring i renrumsmiljøer er ofte udfordret af begrænset og besværlig adgang, muligheder for prøveudtagning, udstyrsbegrænsning mm. For hurtigt at sikre beviserne, kræves der en tværfaglig og ofte kreativ tilgang, hvor bredt kendskab til de eksisterende analyseteknikker og muligheder er essentielt. Der præsenteres en praktisk tilgang til skadesanalysen, dos and don’ts, typiske faldgubber, krydret med eksempler.

Mikkel Østergaard Hansen er uddannet civilingeniør med speciale i korrosion. Han har siden 2007 været ansat hos IPU som specialist i skadesopklaring, rådgivning og udvikling indenfor korrosion, overfladebehandling og korrosionsbeskyttelse. Han har arbejdet med skadesanalyse på udstyr, kritisk rengøring af overflader, overfladebehandling og specifikation på procesudstyr i pharmaindustrien.
15:40 – 15:50


AFRUNDING
Pris:
Medlemmer af ATV-SEMAPP eller en af vores markedsførende organisationer: kr. 2.150,-
Ikke-medlemmer: kr. 2775,-
Early-bird rabat på kr. 200,- ved registrering før den 12. november 2016.
Pris for PhD studerende ved ATV-SEMAPP medlemsorganisationer: kr. 975,-
B.Sc. og M.Sc. studerende medlemmer kan deltage for kr. 200,- (Studentermedlemskab er gratis. Læs evt. mere om medlemskab af ATV-SEMAPP her.)
Early-bird rabatten på 200 gælder ikke for Ph.D.-studerende og studentermedlemmer.

Alle priser er uden moms.

Prisen includerer deltagelse, frokost, pauselækkerier og efterfølgende adgang til oplægsholdernes præsentationer.

Tilmelding
Du tilmelder dig ved at udfylde denne formular. Vi bekræfter din tilmelding indenfor et par minutter. Husk at tjekke dit spam-filter, hvis den ikke havner i din indbakke.

Hvis du alligevel ikke kan deltage 
Hvis du melder fra mindst 8 dage før arrangementet, får du ingen regning 
7 – 4 dage før arrangement: 50% reduktion i pris
3 – 0 dage før arrangementet (eller no-show): Fuld pris
Du kan melde fra ved at sende en mail til semapp@atv-semapp.dk

Du er velkommen til at sende en kollega, hvis du selv bliver forhindret i at komme. Send venligst vedkommendes navn og titel, så vi kan ændre deltagerliste, navneskilt og faktura.

Spørgsmål? 
Har du spørgsmål til konferencen eller problemer med din tilmelding, kan du kontakte ATV-SEMAPP ved at maile semapp@atv-semapp.dk eller ringe til Jytte Laursen, +45 4525 4898 eller Charlotte Leser, +45 4525 4899.


Oplægsholdernes præsentationer vil være tilgængelige for deltagerne efter konferencen via en lukket side med login her.

       

IDA Mechanical          Netværk for Overflader                  
ATV-SEMAPP logo